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TRP-450型磁控濺射系統
編號:SN20151013152824655
類別:磁控濺射鍍膜系統
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

     

    設備組成

        系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

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