設備用途

    本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

設備組成

    該系統主要由真空反應室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。